光刻機是制造大規(guī)模集成電路的核心裝備。為將設(shè)計圖形制作到硅片上，并在2～3平方厘米的方寸之地集成數(shù)十億晶體管，光刻機需達到幾十納米甚至更高的圖像分辨率。而光刻機兩大核心部件之一的工件臺，在高速運動下需達到2nm（相當于頭發(fā)絲直徑的三萬分之一）的運動精度。由此奠定了光刻機超精密工件臺技術(shù)在超精密機械制造與控制領(lǐng)域的最尖端地位，被稱為超精密技術(shù)皇冠上的明珠。
項目由清華大學(xué)機械工程系朱煜教授擔任負責(zé)人，以研制光刻機雙工件臺系統(tǒng)樣機為目標，力爭為研發(fā)65-28nm雙工件臺干式及浸沒式光刻機提供具有自主知識產(chǎn)權(quán)的產(chǎn)品級技術(shù)。項目聯(lián)合了華中科技大學(xué)、上海微電子裝備有限公司和成都工具所等3家單位，下設(shè)10個課題。清華大學(xué)機械工程系、精密儀器系和材料學(xué)院分別承擔了其中6個課題，機械工程系IC裝備團隊承擔了樣機集成研發(fā)等核心科研任務(wù)。
副校長薛其坤在致辭中說，本項目是清華大學(xué)牽頭承擔的最大國家科技重大專項之一。項目啟動之初，清華就成立了專項管理辦公室，制定了相關(guān)管理辦法，確保專項任務(wù)的順利實施。在項目研發(fā)過程中，學(xué)校通過院系協(xié)調(diào)、整合資源、籌措資金，積極支持項目團隊建設(shè)潔凈實驗室等研究條件，從多方面保障了項目正常進程。薛其坤表示，目前全校師生都在認真學(xué)習(xí)貫徹習(xí)近平總書記給清華大學(xué)建校105周年的賀信精神，希望項目團隊充分領(lǐng)會，積極開展?jié)M足國家戰(zhàn)略需求的重大科研項目，加快推進科研成果轉(zhuǎn)化，為深度參與國家創(chuàng)新驅(qū)動發(fā)展戰(zhàn)略做出積極貢獻。
國家科技部原副部長曹健林在總結(jié)發(fā)言中充分肯定了清華雙工件臺團隊的突出貢獻，希望項目團隊站在新的起點，為我國超精密機電裝備的戰(zhàn)略突破做出更大的貢獻。專家組成員紛紛表示，光刻機作為國家戰(zhàn)略必爭的裝備，研發(fā)面臨極高的挑戰(zhàn)和困難，祝賀清華研發(fā)團隊對專項的重大貢獻。
驗收會上，專家組認真聽取了項目完成情況匯報，以及項目樣機測試驗證報告和專家組的現(xiàn)場測試報告，審閱了驗收材料和財務(wù)資料。經(jīng)過充分討論、質(zhì)詢和評議，專家組對項目完成情況給予了92分的高分，一致同意項目通過任務(wù)驗收和財務(wù)驗收。
驗收專家組由相關(guān)領(lǐng)域21名技術(shù)專家和財務(wù)專家組成。專家組認為，研究團隊歷經(jīng)5年完成了全部研究內(nèi)容，突破了平面電機、微動臺、超精密測量、超精密運動控制、系統(tǒng)動力學(xué)分析、先進工程材料制備及應(yīng)用等若干關(guān)鍵技術(shù)，攻克了光刻機工件臺系統(tǒng)設(shè)計和集成技術(shù)，通過多輪樣機的迭代研發(fā)，最終研制出2套光刻機雙工件臺掩模臺系統(tǒng)α樣機，達到了預(yù)定的全部技術(shù)指標，關(guān)鍵技術(shù)指標已達到國際同類光刻機雙工件臺的技術(shù)水平。圍繞雙工件臺技術(shù)完成專利申請231項（其中國際發(fā)明專利41項），已獲得授權(quán)122項；培養(yǎng)了一支近200人的研發(fā)團隊，建立了高水平研發(fā)平臺，為后續(xù)產(chǎn)品研發(fā)和產(chǎn)業(yè)化打下了堅實的基礎(chǔ)。
據(jù)悉，該項目是02專項核心任務(wù)光刻機項目群中第一個通過正式驗收的項目。項目完成使得我國成為世界少數(shù)可以研制光刻機雙工件臺這一超精密機械與測控技術(shù)領(lǐng)域尖端系統(tǒng)的國家之一，將極大推動我國高端光刻機的研制與產(chǎn)品化，是清華大學(xué)面向國家戰(zhàn)略需求、解決重大科技問題、踐行重大科研責(zé)任的一次標志性成果。
清華大學(xué)機械工程學(xué)院院長雒建斌院士，以及財務(wù)處相關(guān)負責(zé)人出席驗收會。